G4 Phoeni擴散氫分析儀注意事項

G4 PHOENIX DH用于測定不同樣品中的擴散氫含量，儀器可配備快速加熱的紅外爐或者高溫管式爐，并配置專用的石英管用于樣品的加熱。樣品管直徑達30mm能夠實現對大塊樣品的分析，系統采用10點氣標校準。系統的核心是一個高靈敏度長期穩定的熱導檢測器，該檢測器能夠實現超低含量氫的檢出。

注意事項

1. 儀器工作環境溫度為 15－30 度。（建議是有空調的試驗室）

2. 儀器附近溫度不要有大的波動，例如不要吹風，也不能有日曬。

3. 大干燥筒中裝有 5A 分子篩，用于氣體分離及脫水。為保 證良好的效果，分子篩 使用 3～6 個月后需重新進行活化。活化條件是將分子篩放在瓷器中在 500～550°

C 馬弗爐中烘燒 2～3 小時。活化后即可再用。

4.干燥管中的高氯酸鎂也會因吸濕而失效，2～3 個月可烘干一 次或換成新的。將 吸濕的高氯酸鎂放在瓷器中于 105°C 下烘 2～3 小時（注意升溫一定要緩慢）， 可重復使用。

5.由于儀器需要用氫氣，注意避免煙火。

6.未經培訓的儀器操作人員在儀器出現電路或氣路故障的情況下，切勿對儀器內部

器件私自進行調整。